Технология плазменного напыления APS
Принцип плазменного напыления: плазменное напыление создает дугу постоянного тока между катодом и анодом (соплом), которая нагревает и ионизирует введенный рабочий газ в высокотемпературную плазму и распыляет плазму из сопла для образования плазменной струи . После подачи порошка потоком газа в плазменную струю порошок расплавляется, ускоряется и распыляется на поверхность предварительно обработанного основного материала для образования покрытия. Плазма является четвертой фазой вещества (отличной от твердой, жидкой и газовой фаз) и служит основой технологии плазменного термического напыления.
Для подбора необходимого оборудования свяжитесь с нашим специалистом по телефону +7 (495) 120-41-66.
Преимущества продукции:
- Пористость покрытия составляет менее 4%
- Более высокая прочность сцепления
- Возможность нанесения покрытия большей толщины, чем при химическом нанесении покрытия
- Более высокая эффективность нанесения покрытия
- Более длительный срок службы катода и анода по сравнению с обычными плазменными горелками
- Отличная устойчивость к трению
- Прекрасная коррозионная стойкость
- Улучшенная чистота поверхности